Продам Высокочастотная плазменная установка Б/У в Санкт-Петербурге

Установка  обработки материалов в ВЧ индукционной плазме мощностью 30 кВА

 опытный прототип высокочастотной плазменной установки для исследования термохимической обработки мелкодисперсных материалов. Установка преобразует электрическую энергию сети в тепловой поток с температурой 1000 – 4000 С из любого газа или смесей (воздух). Установка предназначена для термической и химической обработки порошков 40 – 600 мкм (0,04 – 0,6 мм).

Рабочим телом установки является факел плазмы, по температурным показателям, намного превышающим факела на базе сгорания органики (природный газ, ацетиленовые горелки и т.д.), что позволяет проводить плавление, испарение и переконденсацию практически любых материалов в любой атмосфере.

Основные технические характеристики установки:
Мощность установки, кВа 300
Расход газа, л/мин 20-200
Температура факела С 1000 - 4000
Основные параметры оборудования для плазменной обработки материалов 30 кВа

Расход охлаждающей. воды, м³/час, не более1,5
Расход плазмообразующего. газа, л/мин 20-200
Подводимая мощность, кВт, не менее 35
Рабочая частота, МГц 10-20
Напряжение питания:
- источника питания генератора, В (кол-во фаз) /Гц 380 (3 фазы) / 50
- системы охлаждения, В/Гц 220 / 50
- системы управления, В 24
Частота генератора, МГц 13,56
Габаритные размеры, мм 6000×8000
Высота потолка не менее, мм 4500
Размен помещения с учетом воздухообмена и обслуживания, м2 не менее 100
Общая масса установки, кг, не более 1200
Установка позволяет проводить следующие процессы:
• сфероидизацию с очищением от примесей
• получение легковесных пористых частиц и микросфер из стекла, корунда и т.д.;
• восстановление металлов из окислов, карбидов, сульфидов и т.д.
• нейтрализация или обогащение газов,

Конструктивно, установка состоит из:
• транзисторного блока питания, обеспечивающего работу генераторной лампы;
• высокочастотного генератора с частотой 13,56 мГц, обеспечивающего существование высокочастотной плазмы;
• плазматрона, в котором бесконтактно возбуждается плазменный факел;
• дозатора, регулирующий подачу порошка в факел;
• рабочей камеры с механизмом подьема, в которой происходит обработка порошка;
• фильтра циклонного типа, в котором собирается испарившийся порошок (нанопорошок);
• регуляторов и датчиков расходов газов, порошка, датчиков тока и напряжения;
• система управления с информационным экраном.
• Силовой щит с автоматикой и блоками питания низковольтного оборудования
• Станции водяного охлаждения с насосами и радиаторами